Ozonia CFS-7 工业纯水臭氧消毒装置：支持 24/7 连续运行的高稳定性氧化平台

Ozonia CFS-7 工业纯水臭氧消毒系统：为半导体与电子级超纯水提供持续稳定的高浓度氧化能

在半导体晶圆制造、显示面板、光伏及高端电子制造领域，超纯水（UPW）的品质决定着产线的良率与稳定性。随着制程节点不断迈向 7 nm、5 nm 甚至 3 nm 以下，对水中微生物、微粒、有机物（TOC）、内毒素以及难降解污染物的控制精度要求几乎接近“零容忍”。在这样的行业背景下，高能效、稳定、可控的臭氧消毒系统成为 UPW 系统必不可少的核心单元之一。

Ozonia CFS-7 工业纯水臭氧消毒系统正是为此而生。基于领先的 Ozonia® IGS（Intelligent Gap System）微间隙放电技术 与高精度进气处理平台，CFS-7 能够在长时间运行中保持臭氧产量、臭氧浓度及能效的高度稳定，为 UPW 系统提供持续而强大的氧化能力，是目前电子行业广泛采用的旗舰级臭氧发生装备。

一、面向半导体行业的高等级氧化解决方案

与传统水处理不同，半导体超纯水并不是“普通水”——其对化学、溶解性气体、有机碳及微生物的允许范围极窄。CFS-7 的设计目标是满足：

UPW 循环中的微生物灭杀（Bacteria, Biofilm control）

有机物（TOC）深度氧化

制程设备与冷却系统的微生物污染控制

存储罐与分配回路管道的预防性杀菌

臭氧可以在数秒内完成氧化反应，同时在系统内分解为氧气，不残留任何副产物。CFS-7 通过持续、高浓度、可控的臭氧投加，将 UPW 系统的卫生安全性提升到更高标准。

二、核心技术：高浓度 · 高可靠性 · 高能效

1. Ozonia® IGS 微间隙放电核心技术

CFS-7 采用 Ozonia 专利结构的微间隙放电（IGS），其优势包括：

更高的能量密度与臭氧生成效率

更低的放电温升，提升臭氧浓度与稳定性

长寿命电极材料耐腐蚀、耐湿度波动

长期运行后仍能保持稳定产量

得益于微间隙电场均匀分布，CFS-7 的臭氧浓度可轻松维持在 6–12 wt%（空气源）或 8–14 wt%（氧气源） 的行业高位，适合需要高强度氧化的 UPW 系统。

2. 完整的气源管理：稳定臭氧产量的核心保障

CFS-7 配套包含：

PSA 制氧系统或高纯 O₂ 兼容

深冷干燥与精密除湿

活性氧化物过滤与全套油尘颗粒控制

常压/微正压下稳定进气流量控制

高纯、干燥、稳定的气源使得 CFS-7 在长期运行中臭氧产量波动极小，适合 24/7/365 连续供气的半导体洁净室。

3. 工业级电源系统：高效、耐久、可监控

CFS-7 内置高功率因数的智能电源模块，实现：

±1% 内的功率控制精度

自动调节放电能量以维持臭氧产量恒定

内部散热结构可确保在 40–45°C 环境下保持稳定

自由调节产能：从 10% 到 100% 连续可调

对于产线区域经常出现的负载波动、温湿度变化、电力质量不稳定等情况，CFS-7 均能稳定应对。

三、与 UPW 系统高度兼容的工程化设计

1. 模块化紧凑结构

CFS-7 可集成安装于：

UPW 主臭氧注入点

循环回路（RC）

储罐顶部臭氧化装置

预处理阶段的 TOC 氧化（如 RO 产水段）

其模块化结构适应 机柜式、框架式、在线扩展式 多种工程布置方式。

2. 全面自动化与远程监控

系统支持：

PLC/SCADA

Modbus / Profibus / Ethernet

故障记录与运行趋势图

臭氧产量、温度、电流、电压趋势监控

通过远程系统即可实现 状态管理、预防性维护预测、能耗分析。

3. 适用于电子级材料与超高洁净要求

所有与臭氧接触部件均采用：

316L、Hastelloy

Teflon、PVDF、PTFE

高纯抛光表面（Ra≤0.8 μm）

满足半导体行业对无金属析出、无颗粒脱落、无溶出物的严苛要求。

四、典型应用场景

1. UPW 系统 TOC 降解

臭氧可将微量有机物氧化为 CO₂，提高后续 UV/185 nm 的去除效率。

2. 配水管路杀菌与生物膜控制

CFS-7 固定输出臭氧，使循环水系统始终保持低菌负荷状态，延长系统生命周期。

3. 储罐与回路微生物抑制

臭氧气水混合后均匀分布于储罐，实现零死角杀菌。

4. 高精度制造设备的水路清洗

适用于 CMP、ECP、Litho 等制程用水系统的定期深度氧化清洗。

五、相比传统臭氧机的显著优势

项目

Ozonia CFS-7

普通臭氧机

臭氧浓度 6–14 wt%（高浓度） 2–6 wt%

氧化效率 UPW级深度氧化 普通杀菌级

连续运行稳定性 7×24 小时 易受湿度温度波动影响

远程诊断与智能调节 完全支持 多为人工调节

放电寿命 ≥10 年 2–5 年

工程适配度 满足半导体与电子级标准 工商用为主

CFS-7 明显处于更高等级，适合关键制程水处理系统。

六、为未来制程节点打造的可靠氧化平台

随着 EUV 制程的普及及更高纯度等级 UPW 需求的出现，臭氧消毒将继续成为电子行业的核心保障技术。CFS-7 以其：

高稳定性

高能效

高浓度氧化能力

智能化与可扩展性

成为保证 UPW 系统长期洁净、稳定、低菌、低 TOC 的理想选择。

它不仅是一个臭氧发生器，更是一个面向未来高端制造的 “持续氧化能力平台”。