TO靶材,由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)构成的复合材料。氧化铟作为主要成分,提供了材料的基本电学和光学性能 氧化锡则通过微调组成比例来优化其导电性和透明度。氧化铟(In2O3):ITO靶材的主要成分,负责提供良好的电导性和透明度。独特的晶体结构在可见光范围内具有高透光率,同时在红外和紫外光谱区域表现出较强的吸收。氧化锡(SnO2):只占总成分的少部分(通常不超过10%),但氧化锡的添加对于调节ITO靶材的电学性能至关重要。通过掺杂作用增强材料的导电性,有助于提高其化学稳定性和耐磨性
原料准备与纯化过程选择高纯度原料:生产开始于选择超高纯的氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)。这些原材料的纯度直接影响到ITO靶材的最终性能,因此选材必须严格。复杂的纯化技术:原料通过多阶段化学和物理纯化过程,以除去微量杂质。这一步骤采用精密的纯化技术,例如溶剂萃取、离子交换、真空蒸馏等,确保最终产品的高纯度。混合、研磨与成型过程精确控制的混合过程:氧化铟和氧化锡粉末以精确的摩尔比混合。混合过程中,采用高效的机械搅拌或湿化学方法,确保两种粉末的均匀分布。先进的研磨技术:混合后的粉末通过先进的研磨工艺进一步细化,包括球磨或喷射磨等方法,以实现更均匀的粒度和更高的包覆率。精密成型过程:研磨后的粉末经过精密的压力成型,形成靶材的预定形状。这一步骤中,压力、温度和时间的精确控制对确保靶材的密度和均匀性至关重要。